首页> 中国专利> 一种基于铝阳极氧化膜的复型纳米孔掩模板及其制备方法和应用

一种基于铝阳极氧化膜的复型纳米孔掩模板及其制备方法和应用

摘要

利用真空镀膜技术在多孔氧化铝膜表面沉积薄膜,得到了一种复型纳米孔薄膜。这种复型纳米孔薄膜具有与铝阳极氧化膜相同密度及排列的纳米孔阵列。用化学腐蚀法去除氧化铝衬底后,所得纳米孔薄膜可用作掩模板,与离子刻蚀或真空薄膜沉积等技术相结合,可实现多种纳米阵列的制备及多孔氧化铝图形的复制转移。与传统的超薄多孔氧化铝掩模板相比,这种复型掩模板的制备更为简单,并可选用多种可真空溅射或蒸发的材料。

著录项

  • 公开/公告号CN101117726B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国家纳米技术与工程研究院;

    申请/专利号CN200610015041.3

  • 发明设计人 王森;

    申请日2006-07-31

  • 分类号C25D11/04(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 300457 天津市经济技术开发区第四大街80号

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-15

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25D 11/04 授权公告日:20120307 终止日期:20160731 申请日:20060731

    专利权的终止

  • 2012-03-07

    授权

    授权

  • 2012-03-07

    授权

    授权

  • 2009-09-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-06

    公开

    公开

  • 2008-02-06

    公开

    公开

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