法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-05-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01B 33/113 授权公告日:20120307 终止日期:20140411 申请日:20100411
专利权的终止
2012-03-07
授权
授权
2010-10-06
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 33/113 申请日:20100411
实质审查的生效
2010-08-18
公开
公开
机译: 高纯晶体硅,高纯四氯化硅及其生产方式
机译: 连续制备高纯四氯化硅或高纯四氯化锗的反应器,工厂和工业过程
机译: 高纯镧,高纯镧,以高纯镧为靶的溅射靶的制造方法以及以高纯镧为主要成分的金属栅膜的制造方法