公开/公告号CN101813748B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-01-25
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;
申请/专利号CN200910025230.2
申请日2009-02-25
分类号
代理机构南京苏科专利代理有限责任公司;
代理人陈忠辉
地址 215123 江苏省苏州市工业园区若水路398号
入库时间 2022-08-23 09:09:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-15
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01R 31/3167 授权公告日:20120125 终止日期:20180225 申请日:20090225
专利权的终止
2012-01-25
授权
授权
2012-01-25
授权
授权
2010-10-20
专利申请权的转移 IPC(主分类):G01R31/3167 变更前: 变更后: 登记生效日:20100907 申请日:20090225
专利申请权、专利权的转移
2010-10-20
专利申请权的转移 IPC(主分类):G01R 31/3167 变更前: 变更后: 登记生效日:20100907 申请日:20090225
专利申请权、专利权的转移
2010-10-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G01R31/3167 申请日:20090225
实质审查的生效
2010-10-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G01R 31/3167 申请日:20090225
实质审查的生效
2010-08-25
公开
公开
2010-08-25
公开
公开
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机译: 包含集成电路的衬底,处理包含集成电路的衬底的方法以及背面减薄包含集成电路的衬底的方法
机译: 一种半导体集成电路的制造方法,该方法包括:使用第一光掩模对半导体衬底进行图案化,该第一光掩模使用金属来阻挡光;使用第二光掩模对同一衬底进行图案化,该第二光掩模使用有机树脂来阻挡光。
机译: 一种半导体集成电路的制造方法,该方法包括:使用第一光掩模对半导体衬底进行图案化,该第一光掩模使用金属来阻挡光;使用第二光掩模对同一衬底进行图案化,该第二光掩模使用有机树脂来阻挡光。