首页> 中国专利> 带有布置于平面中的前腔室的气体分配器

带有布置于平面中的前腔室的气体分配器

摘要

一种用于CVD或OPVD反应器的气体分配器,包括两个或更多的气体空间(1、2),在每个空间中开有用于过程气体的供应管线(3、4),每个气体空间(1、2)都连接到用于各个过程气体的多个出口开口(6、7)上,所述开口出口开在气体分配器的底部(5)中。为了增加气体成分的均质性,两个气体空间(1、2)具有位于共用第一平面(8)的前腔室(10、10’、11),分别与一个气体空间相关联的多个气体分配腔室(12、13)设置在第二平面(9)中,临近气体分配器的底部,每个气体空间(1、2)的前腔室(10、10’、11)和气体分配腔室(12、13)通过连接通道(14、15)连接。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-03

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 16/455 登记生效日:20180716 变更前: 变更后: 申请日:20060105

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-08-03

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/455 变更前: 变更后: 申请日:20060105

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2012-03-21

    授权

    授权

  • 2012-03-21

    授权

    授权

  • 2008-03-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-16

    公开

    公开

  • 2008-01-16

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号