法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-11-12
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01G 45/02 授权公告日:20120215 终止日期:20130921 申请日:20100921
专利权的终止
2012-02-15
授权
授权
2011-03-16
实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 45/02 申请日:20100921
实质审查的生效
2011-01-19
公开
公开
机译: 制造用于纳米线结构元件的分段纳米线的方法,包括通过电化学沉积在模板的纳米孔中形成纳米线,以及分解和去除模板以暴露纳米线。
机译: 多孔模板和纳米线结构制备纳米线的方法
机译: 多孔模板和纳米线结构制备纳米线的方法