法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-10-05
授权
授权
2010-04-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/312 申请日:20070315
实质审查的生效
2010-02-10
公开
公开
机译: 表面疏水化膜,表面疏水化膜形成材料,配线层,半导体装置以及半导体装置的制造方法
机译: 表面疏水化膜,用于形成表面疏水化膜的材料,布线层,半导体器件以及用于制造半导体器件的过程
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