法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-07-20
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A61K 49/12 授权公告日:20110914 终止日期:20150602 申请日:20100602
专利权的终止
2011-09-14
授权
授权
2010-11-17
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 212/08 申请日:20100602
实质审查的生效
2010-09-29
公开
公开
机译: 表面改性的氧化钽纳米粒子,其制备方法以及用于x射线计算机断层扫描的造影剂和使用该造影剂的高介电薄膜
机译: 纳米纳米粒子包覆的二氧化硅分子的制备方法,在纳米纳米粒子和高分子纳米粒子中均不包含高聚合度和表面功能化过程
机译: 一种用于造影剂的金属铁素体纳米粒子的制备方法