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一种基于红外焦平面探测器非均匀性指纹模式的校正方法

摘要

一种基于红外焦平面非均匀性指纹模式的校正方法,属于红外成像技术领域。目的是在无背景帧的情况下,对非制冷红外焦平面探测器获取的红外图像进行非均匀性校正。本发明包括原始数据采集步骤、非均匀性指纹提取步骤、校正处理步骤。所谓非均匀性指纹,是指每个红外焦平面探测器都有相对稳定的非均匀性模式及其随温度变化的规律,这两者统称为非均匀性指纹。利用这些可以事先估算出来的非均匀性模式和规律,便可以在红外焦平面探测器获取实际红外图像后,对其进行非均匀性校正。与常规的红外焦平面非均匀性校正方法比较本发明能够有效地减小了探测装置的体积,也不需要像常规方法每次校正时都需要利用均匀挡板获取背景帧,从而大大简化了校正过程。

著录项

  • 公开/公告号CN101776486B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN200910273496.9

  • 申请日2009-12-31

  • 分类号G01J5/52(20060101);H04N5/33(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人朱仁玲

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-08-10

    授权

    授权

  • 2010-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 5/52 申请日:20091231

    实质审查的生效

  • 2010-07-14

    公开

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