首页> 中国专利> 用于搪瓷化学反应器的具有向上开口和扁平支座而没有滞留区域的排流组件

用于搪瓷化学反应器的具有向上开口和扁平支座而没有滞留区域的排流组件

摘要

本发明涉及一种具有向上开口的、用于新的或现有化学反应器、特别是搪瓷型化学反应器的排出开口的排流组件类型,其特征在于,用于排流的外部流出开口(6)的下部设置有扁平环形密封(11)形式的可取下支座部,所述扁平环形密封(11)具有上部,所述上部具有至少一个凹进(21),所述凹进(21)用作阀头部(10)的下表面的支座以及用作完全流动斜坡。本发明特别为化学反应器、特别是搪瓷型化学反应器的制造者和使用者设计。

著录项

  • 公开/公告号CN101636608B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德地氏公司;

    申请/专利号CN200880008379.3

  • 发明设计人 R·格拉;R·施密特;

    申请日2008-02-21

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人蔡洪贵

  • 地址 法国聂德尔布隆雷班

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-10-12

    发明专利更正 卷:27 号:30 页码:扉页 更正项目:PCT申请的公布数据 误:WO2008/122710 FR 20090129 正:WO2008/122710 FR 20081016 申请日:20080221

    发明专利更正

  • 2011-10-12

    发明专利公报更正 卷:27 号:30 IPC(主分类):F16K0001380000 更正项目:PCT申请的公布数据 误:WO2008/122710 FR 20090129 正:WO2008/122710 FR 20081016 申请日:20080221

    发明专利更正

  • 2011-07-27

    授权

    授权

  • 2010-03-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2010-01-27

    公开

    公开

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