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光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法

摘要

光学测量用余弦光强分布物理结构光栅的设计与制作方法,属于机械工程和光学测量技术领域。本发明按照测量要求,设计光栅的尺寸大小,建立光栅尺寸与图像之间的对应关系,利用MATLAB软件设计9幅满足三频三步相移编码方案的灰度图,并使用抖动函数dither将灰度图转化为黑白二值图。再在Ledit软件中设计光栅,利用电子束扫描光刻机制作光栅。本发明基于图像抖动的原理,实现物理结构光栅满足余弦分布,减少投影图片数量,同时保证了测量的精度和稳定性。此外本发明在一块石英玻璃片上制作所有光栅,光栅条纹方向相互平行,与投影机构位移方向一致,降低了对位移精度的苛刻要求,保证了光栅投影的对齐精度。

著录项

  • 公开/公告号CN101915949B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海交通大学;

    申请/专利号CN201010247652.7

  • 发明设计人 习俊通;许伟;陈晓波;

    申请日2010-08-06

  • 分类号

  • 代理机构上海交达专利事务所;

  • 代理人周文娟

  • 地址 200240 上海市闵行区东川路800号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-08-31

    授权

    授权

  • 2011-02-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20100806

    实质审查的生效

  • 2010-12-15

    公开

    公开

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