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使用光子纳米喷射、利用光学计量的自动化过程控制

摘要

本发明公开了使用光子纳米喷射、利用光学计量的自动化过程控制。可使用光学计量来控制制造集群。使用制造集群在晶片上执行制造工艺。产生光子纳米喷射,它是在电介质微球体的遮蔽表面侧引起的光学强度图案。使用光子纳米喷射扫描晶片上的监测区域。随着光子纳米喷射扫描监测区域,获得来自电介质微球体的回射光的测量数据。使用获得的回射光的测量数据确定监测区域中结构的存在状态。基于监测区域中的结构的存在状态的确定结果,调节该第一制造集群的一个或多个工艺参数。

著录项

  • 公开/公告号CN101276214B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN200810096658.1

  • 申请日2008-03-20

  • 分类号

  • 代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人柳春雷

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-03

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05B 19/04 授权公告日:20110727 终止日期:20170320 申请日:20080320

    专利权的终止

  • 2011-07-27

    授权

    授权

  • 2011-07-27

    授权

    授权

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-01

    公开

    公开

  • 2008-10-01

    公开

    公开

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