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校正两参数谱的方法

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本发明涉及信号处理领域，特别涉及X射线或伽马射线光谱测定法。本发明还涉及用于校正两参数谱的方法和改进的处理装置。

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公开/公告号CN1961220B

专利类型发明专利
公开/公告日2011-05-25

原文格式PDF
申请/专利权人核材料总公司;
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申请/专利号CN200580014092.8
发明设计人纪尧姆·蒙特蒙;
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申请日2005-04-21
分类号G01T1/29(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人李春晖;李德山
地址法国韦利济-维拉库布莱
入库时间 2022-08-23 09:07:08

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-06-09

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01T 1/29 授权公告日:20110525 终止日期:20160421 申请日:20050421

专利权的终止
2011-05-25

授权

授权
2007-07-11

实质审查的生效

实质审查的生效
2007-05-09

公开

公开

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