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适用于解决光罩沉积物缺陷的方法与装置

摘要

本发明是有关于一种适用于解决光罩沉积物缺陷的方法与装置,其是将一气体导入一光罩装置中,以使沉积物缺陷藉由气涤清洗方式扩散排出光罩装置外;一金属遮蔽装置将光罩装置围绕容置于其中,用以减少对光罩上的沉积物缺陷以及光罩的损害;在一实施例中,金属遮蔽装置包含有一上方金属遮蔽体、光罩装置的一护膜结构、该光罩装置的复数侧支撑架、一上盖、一把手以及一把手盖体。本发明结合使用气涤清洁与金属遮蔽帮助解决沉积物缺陷问题及静电放电的损害,将不洁物的成长与沉积降至最低以解决沉积物缺陷问题,而可减少光罩在清洗后,光罩重复使用缺陷、光罩清洁频率以及光罩尺寸损耗等。此外,由于同一组光罩能制造更多晶圆而可提升光罩生产力,减少重工制造光罩。

著录项

  • 公开/公告号CN101063806B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN200710079429.4

  • 发明设计人 戴逸明;

    申请日2007-03-12

  • 分类号

  • 代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁

  • 地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-06-22

    授权

    授权

  • 2007-12-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-10-31

    公开

    公开

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