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超分子结构2-萘胺-1,5-二磺酸插层紫外吸收材料及其制备方法

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摘要

本发明提供了一种超分子结构2-萘胺-1，5-二磺酸插层紫外吸收材料及其制备方法。超分子结构2-萘胺-1，5-二磺酸插层材料，简写为ZnAl-NADA-LDHs，其分子式为：[Zn

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-12-25

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09C 3/08 授权公告日:20110518 终止日期:20121109 申请日:20071109

专利权的终止
2011-05-18

授权

授权
2008-07-02

实质审查的生效

实质审查的生效
2008-05-07

公开

公开

1. 超分子结构2-萘胺-1,5-二磺酸插层紫外吸收材料及其制备方法 [P] . 中国专利： CN101173118B . 2011.05.18
2. 超分子结构2，3－二羟基萘－6－磺酸插层紫外吸收材料及其制备方法 [P] . 中国专利： CN101289219A . 2008-10-22
3. Process for the isolation of 2-naphthaloneamine-1,5-disulfonic acid [P] . 欧洲知识产权局专利： EP0531863B1 . 1994-04-27

机译：分离2-萘胺-1,5-二磺酸的方法
4. Process for the isolation of the monosodium salt of 2-naphthalene-amine-1,5-disulfonic acid [P] . 欧洲知识产权局专利： EP0531865B1 . 1994-04-27

机译：分离2-萘胺-1,5-二磺酸单钠盐的方法
5. Process for the isolation of 2-naphthylamine-1,5-disulphonic acid [P] . 美国专利： US5248812A . 1993-09-28

机译：分离2-萘胺-1,5-二磺酸的方法