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一种用于磁共振成像超导磁体设计的离散优化方法

摘要

一种用于磁共振成像(MRI)超导磁体的离散优化设计方法,属于超导磁体设计技术,其特征在于,通过加权法设置目标函数,综合考虑磁场强度,磁场均匀度,杂散场范围,用线量,制作误差等指标。采用离散变量作为优化变量,避免了通常方法中的取整和离散误差。通过在设计目标中考虑误差鲁棒性指标,实现了强鲁棒性的最优设计。使用本设计方法进行超导磁体设计,可综合考虑多个设计指标,设计结果具有便于加工制作,误差鲁棒性强的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN101339580B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN200810114736.6

  • 发明设计人 郭伟;蒋晓华;梁嘉祺;

    申请日2008-06-11

  • 分类号

  • 代理机构北京众合诚成知识产权代理有限公司;

  • 代理人朱琨

  • 地址 100084 北京市100084-82信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-08-05

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F 17/50 授权公告日:20110511 终止日期:20140611 申请日:20080611

    专利权的终止

  • 2011-05-11

    授权

    授权

  • 2009-02-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-01-07

    公开

    公开

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