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一种中空阴极电弧离子镀涂层系统

摘要

一种中空阴极电弧离子镀涂层系统,包括真空室,真空室设有抽真空口,真空室内设有阴极电弧靶和工件架,所述真空室与地绝缘,真空室内壁装上靶材,与电源负极连接,形成中空阴极电弧靶;工件架位于中空阴极电弧靶所包围空间的中心区域。本发明与常规电弧离子镀技术不同,本发明采用可旋转的电磁线圈产生控弧磁场,线圈旋转的转速可以通过调整电机转速进行调整。本发明对常规电弧离子镀技术进行大幅度的改进,首次提出了中空阴极电弧离子镀技术。大幅度提高了涂层的沉积效率,简化了涂层设备。具有镀膜效率高、成本低、操作方便等特点。可以满足工业上超厚涂层的要求。具有较好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN101698934B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN200910272501.4

  • 发明设计人 杨兵;丁辉;

    申请日2009-10-23

  • 分类号C23C14/32(20060101);

  • 代理机构42208 武汉天力专利事务所;

  • 代理人程祥;冯卫平

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌珞珈山

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-12-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/32 授权公告日:20110615 终止日期:20121023 申请日:20091023

    专利权的终止

  • 2011-06-15

    授权

    授权

  • 2010-06-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/32 申请日:20091023

    实质审查的生效

  • 2010-04-28

    公开

    公开

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