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聚合物垢防止剂

摘要

用于含烯不饱和双键的单体的聚合的聚合物垢防止剂,它包括含有(A)通过醌化合物缩合得到的分子量为400至50,000的缩合产物的碱性溶液,将该试剂涂敷于聚合容器的内壁面并干燥形成涂层。这种容器能有效地防止聚合物垢的沉积不仅在容器的液相区域,而且在气液相界面附近的区域也是如此,并且还可用于制备加工成片材等时鱼眼少、白度高的聚合物。

著录项

  • 公开/公告号CN1063460C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2001-03-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越化学工业株式会社;

    申请/专利号CN94106976.1

  • 发明设计人 清水敏秀;渡边干雄;

    申请日1994-06-15

  • 分类号C08G67/00;C08F2/00;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘元金;杨丽琴

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-08-24

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2001-03-21

    授权

    授权

  • 1996-08-28

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1995-01-25

    公开

    公开

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