高纯金属Mo粗粉与由其制得的烧结溅射靶以及高纯Mo粗粉的制造方法

摘要

高纯金属Mo粗粉与由其制得的烧结溅射靶提供一种供形成具有极少颗粒产生的高纯金属Mo薄膜的烧结溅射靶以及一种适用于作为原料粉制得这种靶的高纯金属Mo粗粉。通过烧结经由进行HIP处理的该高纯金属Mo粗粉，便得到该理论密度比率为98％或以上的烧结溅射靶，其中这种颗粒粉按质量有高达99.99％或以上的纯度和按Fischer法有5.5至7.5μm的平均颗粒直径。