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抛光和刨平表面用的组合物和方法

摘要

提供一种用于抛光或刨平工件表面的研磨剂组合物,该组合物包含约30-50%氧化铈;约8-约20%气相二氧化硅;和约15-约45%沉淀法二氧化硅。还提供用该组合物来抛光或刨平工件表面的方法,以及用该方法制成的制品。

著录项

  • 公开/公告号CN1052502C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2000-05-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 罗德尔公司;

    申请/专利号CN93102414.5

  • 申请日1993-03-05

  • 分类号C09K3/14;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人任宗华

  • 地址 美国特拉华

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2001-05-02

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2000-05-17

    授权

    授权

  • 1995-06-21

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1993-11-03

    公开

    公开

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