公开/公告号CN101013269B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-01-12
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申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司;
申请/专利号CN200710008372.9
发明设计人 E·R·卢普斯特拉;A·F·P·恩格伦;B·A·J·卢蒂克休斯;M·J·A·鲁宾格;J·M·A·哈詹伯格;L·C·乔里特斯马;J·W·德克勒克;B·格尤帕特;P·沙普;A·A·范比泽科姆;P·F·W·M·曼迪杰斯;F·索格;P·多弗尔;
申请日2007-01-29
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰费尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:05:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-04-06
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 变更前: 变更后: 申请日:20070129
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2011-01-12
授权
授权
2009-01-14
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-08-08
公开
公开
机译: 包括去除光学元件中的沉积物的方法,光学元件的保护方法,器件制造方法,光学元件和光刻设备的装置
机译: 光学元件,光刻设备,用于制造和/或保护光学元件的方法,器件制造方法和由此制造的器件
机译: 光学元件,光刻设备,用于制造和/或保护光学元件的方法,器件制造方法和由此制造的器件