用于等离子体增强的原子层沉积的设备和工艺

摘要

本发明的实施方式提供一种可在诸如等离子体增强的原子层沉积(PE-ALD)工艺的原子层沉积(ALD)工艺中形成材料的设备。在一实施例中，一工艺腔体是用以使一基材在PE-ALD工艺中接触一连串的气体与等离子体。该工艺腔体包含多个可电性绝缘、电性接地或射频启动的零件。在一个范例中，一腔体主体与一气体歧管(manifold)组件是接地且通过电性绝缘零件 分隔开来，该零件例如一绝缘套、一等离子体筛插件与一隔离环。一喷头、一等离子体隔板(plasma baffle)与一水盒(water box)是设置在这些绝缘零件之间，且在一等离子体产生器启动喷头、等离子体隔板与水盒时，其会变得射频热(RF hot)。本发明的其它实施例提供于工艺腔体中形成材料层的沉积工艺。