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采用可烧蚀的对辐射敏感的材料的结构化表面

摘要

用本发明的方法形成了一种结构化表面。制备这种结构化表面的方法包括以下步骤:将可烧蚀的对辐射敏感的涂料涂布到基体主表面上,再将可烧蚀的对辐射敏感的涂层暴露于辐射,以便可烧蚀的对辐射敏感的涂层的暴露部分从基体上烧蚀,形成结构化表面。从而,结构化表面包含基体和由至少一个分隔堤构架成的结构图案。该方法还可以包括使可流动材料沉积到所述结构上和分隔堤上,以在结构中形成可流动材料的图案的步骤。

著录项

  • 公开/公告号CN101019474B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 伊斯曼柯达公司;

    申请/专利号CN200580030800.7

  • 申请日2005-09-09

  • 分类号H05K3/00(20060101);B44C1/22(20060101);H05K1/00(20060101);B41M1/04(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘冬;段晓玲

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-10-27

    授权

    授权

  • 2007-10-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-15

    公开

    公开

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