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具有硅通孔的半导体芯片构造及其堆叠组合

摘要

本发明提供一种具有硅通孔的半导体芯片构造及其堆叠组合,两个或两个以上通孔垂直贯穿在半导体基板的上下表面的焊垫;两个或两个以上第一凸缘环突出地设置于这些位在该半导体基板上表面的焊垫上,以使其对应焊垫具有接触表面,其位于这些第一凸缘环与这些通孔之间;两个或两个以上第二凸缘环突出地设置于这些位在该半导体基板下表面的焊垫上,以使其对应焊垫具有接触表面,其围绕在这些第二凸缘环之外;第二凸缘环具有可嵌入于第一凸缘环的尺寸。利用凸缘环的上下嵌合,可实现芯片准确对位及避免位移,并可实现一种可先芯片堆叠再将填孔物质填入通孔的芯片堆叠工艺,填孔物质不会溢流而无邻接通孔电性短路的问题,符合硅通孔微间距的要求。

著录项

  • 公开/公告号CN101533811B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 力成科技股份有限公司;

    申请/专利号CN200810006591.8

  • 发明设计人 陈酩尧;

    申请日2008-03-13

  • 分类号

  • 代理机构北京汇泽知识产权代理有限公司;

  • 代理人张瑾

  • 地址 中国台湾新竹县湖口乡新竹工业区大同路26号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-05-07

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 23/482 授权公告日:20101020 终止日期:20130313 申请日:20080313

    专利权的终止

  • 2010-10-20

    授权

    授权

  • 2009-11-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-16

    公开

    公开

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