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基板载置台及其制造方法、基板处理装置、流体供给机构

摘要

本发明提供一种不仅能够防止在流体通路内残留的喷镀残渣,而且能够防止发生喷镀残渣导致的污染、防止发生流体通路的孔堵塞的基板载置台、基板载置台的制造方法、基板处理装置、流体供给机构。基板载置台(5)通过粘合形成为圆板状的第一板状部件(510)和第二板状部件(520)而构成,其整体形成为板状。在第一板状部件(510)中设置有多个气体喷出孔(511)。在第二板状部件(520)中形成用于形成向气体喷出孔(511)供给气体的供给通路的槽(521),并且槽(521)的底部(521a)形成为曲面状。在第一板状部件(510)的上侧的载置面上设置有静电卡盘(11)。静电卡盘(11)通过在由陶瓷喷镀膜制成的绝缘部件(10)之间配置电极(12)而构成。

著录项

  • 公开/公告号CN101207061B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN200710154402.7

  • 发明设计人 上田雄大;小林义之;大桥薰;

    申请日2007-09-11

  • 分类号

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-09-29

    授权

    授权

  • 2008-08-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-06-25

    公开

    公开

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