公开/公告号CN101174092B
专利类型发明专利
公开/公告日2010-10-06
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华虹NEC电子有限公司;
申请/专利号CN200610117731.X
申请日2006-10-30
分类号G03F7/20(20060101);G02B27/00(20060101);
代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人顾继光
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
入库时间 2022-08-23 09:05:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-02-05
专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20140108 申请日:20061030
专利申请权、专利权的转移
2010-10-06
授权
授权
2008-07-02
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-05-07
公开
公开
机译: 用于投影曝光系统的投影透镜,用于对晶片上的畸变校正掩模版成像,以制造例如微结构组件,具有光学组件,其中镜头畸变在分辨率的特定百分比附近变化
机译: 用于环视监控系统的svm镜头畸变校正系统及其方法
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