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用于监控镜头慧差导致成像畸变的方法及其透镜成像系统

摘要

本发明公开了一种用于监控镜头慧差导致成像畸变的方法,它可以实时监控成像畸变,并通过反馈系统及时调整,提高了光刻机的使用效率,同时提升了光刻机精度的可靠性。它包括,第一步,在光刻机进行套刻之前,选取掩膜板和硅片平面的相同位置通过透镜成像系统分别成像到透镜成像系统的焦平面空间像收集探测器阵列上;第二步,根据两组成像的空间位置差异计算出透镜成像畸变;第三步,根据计算得出的成像畸变参数通过反馈系统对透镜成像系统的环境参数进行调整。本发明还公开了一种用于监控镜头慧差导致成像畸变的透镜成像系统。

著录项

  • 公开/公告号CN101174092B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹NEC电子有限公司;

    申请/专利号CN200610117731.X

  • 发明设计人 吴鹏;伍强;

    申请日2006-10-30

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B27/00(20060101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人顾继光

  • 地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-05

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20140108 申请日:20061030

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-10-06

    授权

    授权

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

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