首页> 中国专利> 低温密着强度高烧成幅度宽的搪玻璃底釉

低温密着强度高烧成幅度宽的搪玻璃底釉

摘要

本发明涉及一种低温密着强度高烧成幅度宽的搪玻璃底釉,包括A硬料、B中料、C软料、磨加物和水:所述C软料主要由以下重量份的原料组成:SiO

著录项

  • 公开/公告号CN101139167B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江阴硅普搪瓷有限公司;

    申请/专利号CN200710025773.5

  • 发明设计人 余献忠;

    申请日2007-08-06

  • 分类号

  • 代理机构江阴市同盛专利事务所;

  • 代理人唐纫兰

  • 地址 214443 江苏省江阴市申港于门桥南首白石山6号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-14

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C03C 8/20 变更前: 变更后: 申请日:20070806

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-09-15

    授权

    授权

  • 2008-05-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-12

    公开

    公开

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