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图案化磁介质、磁记录介质和磁存储装置

摘要

本发明的课题是提供可靠性和功能良好的图案化磁介质、磁记录介质和磁存储装置。在具备基板和在上述基板的一个主面侧形成的软磁性基底膜、非磁性膜、中间膜图案化磁介质、记录层、与上述记录层接触地形成的第一保护膜、与上述第一保护膜接触地形成的第二保护膜、与上述第二保护膜接触地形成的第三保护膜,且上述记录层具有磁性膜与非磁性材料的凹凸图案接触地形成的图案结构的图案化磁介质中,将上述第一保护膜和上述第三保护膜的主构成材料定为碳,将上述第二保护膜定为涂敷膜。由于碳与涂敷膜的密接性高,故可防止剥离,涂敷膜作为缓冲材料吸收冲击力。

著录项

  • 公开/公告号CN101206872B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN200710199751.0

  • 发明设计人 岩崎富生;

    申请日2007-12-12

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/64 授权公告日:20100714 终止日期:20151212 申请日:20071212

    专利权的终止

  • 2010-07-14

    授权

    授权

  • 2008-08-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-06-25

    公开

    公开

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