首页> 中国专利> 用发射光谱学/残余气体分析仪结合离子电流的剂量测定

用发射光谱学/残余气体分析仪结合离子电流的剂量测定

摘要

本发明主要提供了在等离子体工艺中控制实时离子剂量的方法和装置。在一个实施例中,离子剂量可利用从质量分布传感器的等离子体的原地测量结合从射频探针的原地测量进行控制。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/00 授权公告日:20100602 终止日期:20190227 申请日:20080227

    专利权的终止

  • 2012-02-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/00 变更前: 变更后: 申请日:20080227

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2012-02-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/00 变更前: 变更后: 申请日:20080227

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-03

    公开

    公开

  • 2008-09-03

    公开

    公开

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