宽频带抗反射膜及具有该宽频带抗反射膜的光学元件

摘要

本发明涉及一种宽频带抗反射膜，其包括沿光学元件表面依次形成的一底层、一拓宽层及一顶层。所述底层为膜厚为0.95-1.05d的中间折射率材料层。所述顶层为膜厚为0.95-1.05d的低折射率材料层。所述拓宽层包括沿底层向顶层方向依次形成的第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层及第五膜层。所述第一膜层为膜厚为0.311-0.343d的高折射率材料层。所述第二膜层为膜厚为0.147-0.163d的低折射率材料层。所述第三膜层为膜厚为1.561-1.725d的高折射率材料层。所述第四膜层为膜厚为0.210-0.232d的低折射率材料层。所述第五膜层为膜厚为0.321-0.355d的高折射率材料层。所述d＝λ/(4n)，其中λ为入射光的波长，n表示对应膜层的折射率。