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一种可变间隙止动装置、一种半导体处理装置及一种用以使驱动单元的移动停止的方法

摘要

一种可变间隙停止动装置(30、32)其能够使一驱动单元的移动停止,例如一汽缸可在一半导体处理设备中移动固定有一半导体晶片的夹盘(21),该汽缸驱动单元包括至少一个定位表面。一可移动的间隙止动单元(33、34)包括至少一个止动表面,在一较佳的具体实施例中,可包括在不同高度处的二个或更多不同的止动表面。一汽缸(31)移动所述可移动的间隙止动单元,以使至少一个止动表面系与驱动单元的所述至少一个定位表面对齐或不对齐。利用该结构与操作,驱动单元的至少一个定位表面可紧靠着可移动的间隙止动单元的可变止动表面。以驱动单元的定位表面所紧靠着的多个止动表面为基础,可以控制汽缸移动夹盘的高度,从而控制半导体处理室内夹盘的高度。因此,本发明提供一种可简单地加以控制的方式,以致一物体诸如半导体晶片可在一装置内(诸如一处理室)可简单且有效率地以可变化的高度加以配置。

著录项

  • 公开/公告号CN1426284B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-05-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京电子株式会社;

    申请/专利号CN01808771.X

  • 申请日2001-04-27

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人范莉

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-05-26

    授权

    授权

  • 2003-09-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-06-25

    公开

    公开

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