首页> 中国专利> 具有低二氧化硅与氧化铝比率分子筛的混合基质膜以及制造和使用该膜的方法

具有低二氧化硅与氧化铝比率分子筛的混合基质膜以及制造和使用该膜的方法

摘要

提供混合基质膜,它包括连续相有机聚合物和分散在其中的小孔隙含氧化铝分子筛。该分子筛具有低于1.0,更优选低于0.3,和最优选低于0.1的二氧化硅与氧化铝摩尔比率。在一些情况下,该分子筛不含显著量的二氧化硅。示例性的组成包括铝磷酸盐(AlPO)和硅铝磷酸盐(SAPO)。当这些分子筛适当地被连续相聚合物散布时,该膜将显示出混合基质膜效果,即相对于不包含分子筛的净膜,有至少10%的选择性提高。该分子筛具有4.0埃或更低的最大次要结晶学自由直径的孔隙。该分子筛选自具有包括AEI,CHA,ERI,LEV,AFX,AFT和GIS的IZA结构类型的分子筛。优选的分子筛的实例包括:AlPO-18,SAPO-18,AlPO-34,SAPO-34,SAPO-44,SAPO-47,AlPO-17,SAPO-17,CVX-7,SAPO-35,SAPO-56,ALPO-52和SAPO-43。最后,还公开了制造此类混合基质膜的方法和使用此类混合基质膜从含有两种或多种气体组分的混合物中分离气体的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN1898009B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 切夫里昂美国公司;

    申请/专利号CN200480038973.9

  • 发明设计人 S·J·米勒;A·库珀曼;D·Q·武;

    申请日2004-12-10

  • 分类号B01D53/22(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人邓毅

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-02-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01D 53/22 授权公告日:20100616 终止日期:20111210 申请日:20041210

    专利权的终止

  • 2010-06-16

    授权

    授权

  • 2007-03-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-01-17

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号