公开/公告号CN100595647C
专利类型发明授权
公开/公告日2010-03-24
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社巴川制纸所;
申请/专利号CN200410044504.X
申请日2004-05-08
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人刘宗杰
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:04:11
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-03-24
授权
授权
2006-06-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-12-01
公开
公开
机译: 光漫射器,光漫射粘合剂,光漫射硬涂层构件,光扩散膜和包括光扩散膜的图像形成装置
机译: 用于使来自背光系统的光均匀化的漫射结构,该漫射结构具有沉积在玻璃基板的内表面上的漫射层,其厚度在3至20微米之间并且具有可变的覆盖密度以使光均匀化
机译: 光漫射膜,用于限定该光漫射膜的表面形状的方法以及用于限定记录有光扩散膜的程序记录介质的表面形状的方法