法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-01-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/66 授权公告日:20100428 终止日期:20111119 申请日:20041119
专利权的终止
2010-05-12
专利申请权的转移 IPC(主分类):G11B 5/66 变更前: 变更后: 登记生效日:20100401 申请日:20041119
专利申请权、专利权的转移
2010-04-28
授权
授权
2006-03-22
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-01-25
公开
公开
机译: 记录介质基板和具有具有良好膜质量的化学镀膜的记录介质
机译: 具有无电PD-AG合金镀膜的氢分离膜及其制备
机译: 评估所指定的碳膜和具有碳膜的磁性记录介质的质量评估