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电子工业用二氧化硅粉料的生产方法

摘要

一种电子工业用二氧化硅粉料的生产方法,以工业硅酸钠和盐酸为原料,工艺步骤包括:(1)沉淀反应制备硅酸溶胶;(2)过滤、洗涤;(3)干燥;(4)煅烧。沉淀反应时采用加入盐析剂和分散剂的措施避免溶液从碱性范围过渡到酸性范围产生凝胶,盐析剂为氨水,分散剂为酒精、甘油、丙酮及乙酸乙酯中的任一种。此种方法所生产的SiO2粉料,各杂质含量均小于50ppm,费氏粒度小于0.5μm,是电子元件的优质掺杂材料。

著录项

  • 公开/公告号CN1048695C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2000-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 雷慧绪;

    申请/专利号CN94111818.5

  • 发明设计人 雷慧绪;彭少芳;

    申请日1994-07-02

  • 分类号C01B33/142;C01B 33/148;H01C 7/12;

  • 代理机构成都科技大学专利代理事务所;

  • 代理人黄幼陵

  • 地址 610061 四川省成都市成都电冶厂家属宿舍11幢4单元1号

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2004-09-01

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2000-01-26

    授权

    授权

  • 1998-03-04

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1996-01-10

    公开

    公开

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