用于10^-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置

摘要

本发明公开了一种用于10^-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置。它的水冷腔(3)内置有软铁(5)和磁钢(4)、下端面与水冷腔密封法兰(17)上端面间置有O形金属密封圈(7)，并经螺丝(22)相固定，进出水管(20，19)分别于软铁(5)和水冷腔密封法兰(17)相焊接，水冷腔密封法兰(17)的下端面与靶支撑座(15)上端面间置有电极绝缘层(13)和两组四只O形密封圈(8，9，10，11)，并经靶支撑座(15)中套装的出水管(19)另一端上的紧固螺母(18)相抵压连接，每组O形密封圈间均置有与抽气管(16)相通的通孔(12，14)，靶支撑座(15)上焊接有安装法兰(21)。它的真空度高达6×10^-8Pa，可实现高质量高纯度金属或非金属薄膜的制备。