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离子束辅助沉积铂-碳混合膜的工艺方法

摘要

本发明采用离子束辅助沉积技术沉积铂-碳混合膜,即在溅射沉积铂-碳混合膜的同时,由于利用碳原子的溅射率随辅助轰击氩离子的能量的增大而迅速增大的特点,通过调节辅助轰击氩离和剂量,精确控制铂-碳混合膜的铂/碳成份比。本发明易在普通离子束辅助沉积设备上实现,工艺简单、成本低,特别适合在实验室条件下制备少量的实验样品用。

著录项

  • 公开/公告号CN100564583C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-12-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200710046884.4

  • 发明设计人 江炳尧;冯涛;王曦;柳襄怀;

    申请日2007-10-10

  • 分类号C23C14/46(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/54(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人潘振甦

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-12-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/46 授权公告日:20091202 终止日期:20121010 申请日:20071010

    专利权的终止

  • 2009-12-02

    授权

    授权

  • 2008-04-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-27

    公开

    公开

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