公开/公告号CN110023836B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.12.20
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社SK电子;
申请/专利号CN201780070662.8
发明设计人 美作昌宏;
申请日2017.12.25
分类号G03F1/00(2012.01);C23C14/06(2006.01);C23C14/08(2006.01);C23C14/14(2006.01);G03F1/32(2012.01);G03F7/40(2006.01);
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司 11322;
代理人龙淳
地址 日本京都府
入库时间 2023-01-09 21:32:12
机译: 制造半色调相移掩模坯,半色调相移掩模坯,半色调相移掩模以及形成用于光掩模坯的薄膜的装置的方法
机译: 半色调型EUV掩模,半色调型EUV掩模坯,半色调型EUV掩模的制造方法及图案转印方法
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