公开/公告号CN100573814C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-12-23
原文格式PDF
申请/专利权人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司;
申请/专利号CN200610113335.X
申请日2006-09-22
分类号H01L21/00(20060101);H01L21/3065(20060101);H01L21/66(20060101);G01M19/00(20060101);G05B19/048(20060101);C23F4/00(20060101);
代理机构11260 北京凯特来知识产权代理有限公司;
代理人郑立明;李丽娟
地址 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼
入库时间 2022-08-23 09:03:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-11-10
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/00 变更前: 变更后: 申请日:20060922
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2009-12-23
授权
授权
2009-12-23
授权
授权
2008-05-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-05-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-03-26
公开
公开
2008-03-26
公开
公开
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机译: 药物组合物和减少患者视网膜神经节细胞层中斑块负荷,减少患者视网膜神经节细胞层中斑块数量,减少患者视网膜神经节患者层中可溶性β-淀粉样蛋白总量的方法预防,治疗或减轻与病理异常/视觉系统组织变化有关的眼病的影响,诊断与病理异常/系统组织变化有关的眼病的易感性,以监测与病理相关的最小残留眼病视觉系统组织异常/变化,以预测患者的反应能力,并保持或降低患者眼睛的眼压
机译: 可现场监测的等离子体刻蚀装置,其现场监测方法和现场清除方法,用于清除等离子体刻蚀室中的残留物
机译: 监测包括相同部件的等离子体等离子刻蚀装置以及使用该部件制造半导体装置的方法