法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
1998-06-24
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-09-11
授权
授权
1992-11-18
公开
公开
1992-09-16
实质审查请求已生效的专利申请
实质审查请求已生效的专利申请
机译: 磁增强低温高密度等离子体化学气相沉积等离子体源,用于沉积金刚石和类金刚石薄膜
机译: 磁性增强的低温高密度等离子体化学气相沉积等离子体源,用于沉积金刚石和类金刚石薄膜
机译: 磁性增强的低温高密度等离子体化学气相沉积等离子体源,用于沉积金刚石和类金刚石薄膜