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微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜

摘要

本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1-10%的高纯氧气,0.1-10%的高纯甲烷,剩余为高纯氢气,工作气体的压力为1-100t,在金则石膜沉积过程中微波功率为100-500瓦。本发明的优点在于工艺简单、重复性强,突破了金则石薄膜的应用领域,可用于光学、电学领域。

著录项

  • 公开/公告号CN1032768C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日1996-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN91102584.7

  • 发明设计人 杨保雄;吕反修;蒋高松;叶锐曾;

    申请日1991-04-28

  • 分类号C23C16/26;C23C16/48;

  • 代理机构北京科技大学专利代理事务所;

  • 代理人刘月娥

  • 地址 100083 北京市学院路30号

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1998-06-24

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 1996-09-11

    授权

    授权

  • 1992-11-18

    公开

    公开

  • 1992-09-16

    实质审查请求已生效的专利申请

    实质审查请求已生效的专利申请

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