首页> 中国专利> 具有npn和pnp双极晶体管的集成电路装置及相应的制造方法

具有npn和pnp双极晶体管的集成电路装置及相应的制造方法

摘要

在各种情况下公开了一种集成电路装置(100),其包括npn晶体管(102)和pnp晶体管(104)。在pnp晶体管包括确定pnp晶体管的发射极连接区(120)的宽度的断层(142)且连接区(120)的导电材料与该断层(142)横向重叠时,则制造出具有显著电性能的晶体管。

著录项

  • 公开/公告号CN100550384C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 因芬尼昂技术股份公司;

    申请/专利号CN200480017361.1

  • 申请日2004-06-01

  • 分类号H01L27/082(20060101);H01L21/8228(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王岳;梁永

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-10-14

    授权

    授权

  • 2006-09-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-07-26

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号