法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-23
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20070831
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2009-08-12
授权
授权
2008-06-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-04-09
公开
公开
机译: 用于将晶片与曝光设备对准的半导体晶片对准标记,用于从对准标记产生对准信号的对准系统以及根据对准标记确定晶片的对准状态的方法
机译: 用于将晶片与曝光设备对准的半导体晶片对准标记,用于从对准标记产生对准信号的对准系统以及根据对准标记确定晶片的对准状态的方法
机译: 集成电路覆盖对准标记,包括覆盖对准标记的基板,一种在集成电路制造中形成覆盖对准标记的方法,以及在集成电路的制造中确定覆盖对准的方法