首页> 中国专利> 一种用于光刻机对准的标记以及使用该标记的对准方法

一种用于光刻机对准的标记以及使用该标记的对准方法

摘要

本发明公开了一种基于四周期相位光栅的用于投影扫描光刻机的对准标记及对准信号处理方法,该方法利用标记中粗光栅分支信号确定捕获范围和粗对准位置,利用标记中精细光栅分支的信号确定精对准位置,从而可以保证仅采用±1级衍射光信号,即可获得高精度的对准位置,提高了对准效率,简化了对准光学系统。

著录项

  • 公开/公告号CN100526995C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-08-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN200710045495.X

  • 申请日2007-08-31

  • 分类号G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所;

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-23

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20070831

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2009-08-12

    授权

    授权

  • 2008-06-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-04-09

    公开

    公开

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