公开/公告号CN112390537B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.08.19
原文格式PDF
申请/专利权人 郑州恒昊光学科技有限公司;
申请/专利号CN202011531322.0
申请日2020.12.22
分类号C03C15/00(2006.01);C09K13/10(2006.01);
代理机构郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104;
代理人蔡艳
地址 450000 河南省郑州市经济技术开发区第二十二大街121号
入库时间 2022-09-26 23:16:40
机译: 蚀刻液,玻璃基质的蚀刻处理方法及蚀刻液的再生产处理方法
机译: 太阳能电池的制造方法,涉及在硅晶片的表面的一部分上涂布硼玻璃,在织构蚀刻液中对硅晶片进行蚀刻时,以硼玻璃作为蚀刻阻挡层。
机译: 制备蚀刻液的方法,特别是用于蚀刻印刷电路的蚀刻液,以及根据本方法或类似方法获得的蚀刻液和印刷电路的方法