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一种数字光处理投影光机及投影仪

摘要

本发明提供了一种数字光处理投影光机及投影仪,投影光机包括照明系统、数字微镜阵列、投影系统、第一挡光单元和第二挡光单元,第一挡光单元用于遮挡照明光束中的第一部分照明光,从而在开通状态光束中形成第一开通遮挡区域,并在所述平坦状态光束中形成第一平坦遮挡区域,第一平坦遮挡区域与开通状态光束所在区域之间的重叠区域为第一区域;第二挡光单元用于在投影孔径光阑处遮挡开通状态光束的一部分,该部分为开通状态光束所在区域与平坦状态光束所在区域之间的重叠区域中除第一区域之外的区域对应的开通状态光;第一部分照明光的光能量小于第二部分照明光的光能量。本发明能够在遮挡初始重叠区域的基础上,提高投影亮度。

著录项

  • 公开/公告号CN113156745B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市安华光电技术有限公司;

    申请/专利号CN202110443085.0

  • 发明设计人 程炎;梁志明;高怡玮;

    申请日2021-04-23

  • 分类号G03B21/00;G03B21/20;

  • 代理机构深圳市君之泉知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨洪龙

  • 地址 518055 广东省深圳市南山区西丽街道西丽社区打石一路深圳国际创新谷八栋A座2101-2105

  • 入库时间 2022-09-06 00:36:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-22

    授权

    发明专利权授予

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