公开/公告号CN100524647C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-08-05
原文格式PDF
申请/专利权人 日本电气株式会社;
申请/专利号CN03821732.5
发明设计人 林喜宏;
申请日2003-07-15
分类号H01L21/312(20060101);C08F230/08(20060101);C08F236/22(20060101);C08G61/12(20060101);C23C14/12(20060101);H01L21/768(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人汪惠民
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:02:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-04-01
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/312 变更前: 变更后: 登记生效日:20150311 申请日:20030715
专利申请权、专利权的转移
2009-08-05
授权
授权
2005-12-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-10-12
公开
公开
机译: 有机硅氧烷共聚物膜,所述共聚共聚物膜的制造方法和沉积装置以及使用所述共聚共聚物膜的半导体装置
机译: 有机硅氧烷共聚物膜,其制造方法,生长设备以及使用该共聚物膜的半导体器件
机译: 使用相同的有机硅氧烷共聚物膜,其制造方法,生长装置和半导体装置