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一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法

摘要

本发明公开了一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法,该方法对满足预设光电性能条件的分子给体、分子受体以及分子连接体进行虚拟合成得到TADF发光分子,将部分TADF发光分子作为样本分子,将样本分子的分子结构转换成ECFP分子指纹,使用基于深度神经网络的回归模型对样本分子的分子特征和发光性能进行训练,并使用训练好的回归模型对所有TADF发光分子发光性能进行预测,最后选择预设发光性能阀值,对TADF发光分子进行筛选,筛选出的TADF发光分子作为实验合成对象。本发明能够很大程度的减少TADF发光分子设计的周期和成本。

著录项

  • 公开/公告号CN112185478B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都职业技术学院;

    申请/专利号CN202011181452.6

  • 发明设计人 谭筝;史卫梅;杨仕清;

    申请日2020-10-29

  • 分类号G16C20/20;G06N3/08;G06N3/04;

  • 代理机构成都九鼎天元知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡川

  • 地址 610299 四川省成都市高新区站华路15号

  • 入库时间 2022-08-23 13:45:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-31

    授权

    发明专利权授予

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