一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法，所述制备方法为：先制备得到酸催化的SiO2溶胶A，然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B，最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。本发明的制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快，由于制得的SiO2减反射膜中有酸催化SiO2纳米颗粒的存在，使得到的SiO2减反射膜相比于现有的SiO2减反射膜，机械性能更好，且透光率高，反应过程中无需引入任何有机硅烷或是对薄膜进行后处理即可得到超低折射率的SiO2薄膜。