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蒸发源、蒸发源系统

摘要

本发明提供一种蒸发源、蒸发源系统,属于材料蒸镀技术领域,其可解决现有的蒸发源在长时间使用后容易出现所形成的膜层膜厚不均一的问题。本发明的蒸发源,用于蒸镀材料的蒸镀,包括:坩埚体,用于容置蒸镀材料;喷嘴,设置在所述坩埚体上,用于喷发所述蒸镀材料;角度板,设置在所述坩埚体上,且所述角度板在垂直于坩埚体的方向上的高度大于喷嘴在垂直于坩埚体的方向上的高度;所述角度板用于限制所述喷嘴的喷射范围;所述角度板靠近所述喷嘴的一侧具有容纳部,用于容纳部分蒸镀材料,以避免所述蒸镀材料影响所述喷射范围。

著录项

  • 公开/公告号CN111378933B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010346155.6

  • 发明设计人 胡海兵;

    申请日2020-04-27

  • 分类号C23C14/24;C23C14/14;C23C14/12;

  • 代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人李迎亚;姜春咸

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2022-08-23 13:32:45

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