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蒸着装置、蒸着方法及び有機EL表示装置の製造方法

机译:蒸着装置、蒸着方法及び有机EL表示装置の制造方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition apparatus that can prevent heat generation from a magnet chuck at the time of vapor deposition while making it hardly be influenced by a magnetic field at the time of positioning a vapor deposition substrate to a vapor deposition mask, and to provide a vapor deposition method and a method for manufacturing an organic EL display device.;SOLUTION: A vapor deposition apparatus includes a magnet chuck 3 constituted of a permanent magnet 3A and an electromagnet 3B. The vapor deposition apparatus lowers an influence from a magnetic field by weakening the magnetic field of the permanent magnet using the electromagnet at the time of positioning a vapor deposition substrate 2 to a vapor deposition mask 1, and after the positioning, turns off the electromagnet and attracts the vapor deposition mask with a strong magnetic field only by the permanent magnet, thereby not generating heat.;SELECTED DRAWING: Figure 3;COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种气相沉积设备,该气相沉积设备能够防止在气相沉积时从电磁吸盘产生热量,同时在将气相沉积基板放置到气相沉积掩模上时几乎不受磁场的影响。 ;并且提供一种气相沉积方法和用于制造有机EL显示装置的方法。解决方案:气相沉积设备包括由永久磁铁3A和电磁体3B构成的吸盘3。气相沉积设备通过在将气相沉积基板2定位到气相沉积掩模1时使用电磁体削弱永磁体的磁场来降低磁场的影响,并且在定位之后关闭电磁体并永磁体仅通过永磁体吸引具有强磁场的气相沉积掩模,从而不会产生热量。;选定的图纸:图3;版权:(C)2019,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2019035138A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORP;

    申请/专利号JP20180036511

  • 发明设计人 岸本 克彦;崎尾 進;

    申请日2018-03-01

  • 分类号C23C14/24;C23C14/04;H05B33/10;H01L27/32;H01L51/50;G09F9/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:20:16

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