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延长等离子蚀刻系统中反应腔使用寿命的方法

摘要

在等离子体蚀刻设备中,反应腔是十分重要的部件,本发明提供一种延长分耦式等离子体源金属蚀刻机台中上反应腔使用寿命的方法,通过对上反应腔中容易受等离子体损害的部分提供特殊材料的覆盖物,使上反应腔的使用寿命得到延长。同时由于上反应腔壁在覆盖环套保护下不易受损,也就不容易产生导致产品缺陷的微粒,这样对后续工艺以至产品良率均有提升。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-01-11

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/00 变更前: 变更后:

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-06-24

    授权

    授权

  • 2008-03-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-16

    公开

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