公开/公告号CN100505151C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-06-24
原文格式PDF
申请/专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;
申请/专利号CN200610028977.X
申请日2006-07-14
分类号H01L21/00(20060101);H01L21/67(20060101);H01L21/3065(20060101);H01L21/311(20060101);H01L21/3213(20060101);C23F4/00(20060101);H01J37/32(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人李勇
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号
入库时间 2022-08-23 09:02:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-01-11
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/00 变更前: 变更后:
专利申请权、专利权的转移
2009-06-24
授权
授权
2008-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-01-16
公开
公开
机译: 延长盖环和静电吸盘组件的使用寿命,静电吸盘组件的结构可改善等离子体蚀刻反应器的性能
机译: -使用耐等离子体原子层沉积涂层来延长蚀刻剂容器中聚合物成分的使用寿命
机译: 使用耐等离子体原子层沉积涂层来延长蚀刻剂中聚合物成分的使用寿命