基于电射流沉积具有高红外反射率的微叠层薄膜制备方法

摘要

本公开提供了基于电射流沉积具有高红外反射率的微叠层薄膜制备方法，步骤包括：采用电射流方法在预处理过的基体表面依次沉积金属间化合物‑碳化物复合薄膜和金属氧化物薄膜，形成具有多层结构的微叠层薄膜；采用电射流方法沉积多层微叠层薄膜，设备简单、可控性强、沉积速率高，同时制备的微叠层薄膜致密度高，薄膜表面气孔少和微裂纹少，且薄膜具有较高的红外反射率；解决了旋涂法对实验环境要求高且制备的薄膜不均匀和激光熔覆法的激光熔覆设备昂贵，而且得到的涂层内部气孔较多，涂层组织不均匀，这使得涂层具有较低的红外反射率的问题。